【英文标准名称】:Testingofmaterialsforsemiconductortechnology-Methodsforcharacterizingphotoresists-Part1:Determinationofcoatingthicknesswithopticalmethods
【原文标准名称】:半导体技术用材料的试验.表征光阻剂方法.第1部分:涂层厚度的光学法测定
【标准号】:DIN50455-1-2009
【标准状态】:现行
【国别】:德国
【发布日期】:2009-10
【实施或试行日期】:
【发布单位】:德国标准化学会(DE-DIN)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:
【英文主题词】:Checkingequipment;Chemicals;Coatingthickness;Covercoats;Electronicengineering;Inspection;Materials;Materialstesting;Measurement;Measuringtechniques;Opticalmeasurement;Photoresists;Properties;Semiconductortechnology;Siliconslices;Testing;Thickness;Varnishes
【摘要】:
【中国标准分类号】:H17
【国际标准分类号】:29_045
【页数】:8P.;A4
【正文语种】:德语